一種利用射頻激發(fā)氣體形成等離子體,在基底表面沉積薄膜的分析儀器。
可制備各種金屬膜、無機(jī)膜和有機(jī)膜,在半導(dǎo)體制造、太陽能電池、涂層技術(shù)、顯示面板等領(lǐng)域都有著廣泛的應(yīng)用。
1.包括一個(gè)傳片腔和一個(gè)反應(yīng)腔。傳片腔內(nèi)配置了一個(gè)單臂真空機(jī)械手,容納2個(gè)卡匣,每個(gè)卡匣可裝載25片8寸或6寸晶圓。反應(yīng)腔內(nèi)有6個(gè)晶圓放置站,其中5個(gè)沉積站,1個(gè)傳片站。
2.配置的氣箱可配置8路氣路,包含了沉積工藝氣體和清潔氣體??沙练eSiO2, SiN薄膜。
3.人機(jī)界面交互方便,易操作。&nbs
版權(quán)所有?愛佩克斯(北京)科技有限公司 電 話:13911322033
地 址:北京市豐臺(tái)區(qū)郭公莊中街20號(hào)院3號(hào)樓11層1103-A15